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PhotoKleen™ NTD囊式过滤器 product photo Primary L

PhotoKleen™ NTD Filter Capsule

用于先进工艺的光刻过滤器 PhotoKleen™ NTD囊式过滤器设计用于高级大通量跟踪系统中的侵蚀性有机溶剂应用。 可选三种过滤器结构，分别用于高级跟踪系统（PhotoKleen EZD3X/PHF12、Photokleen EZD3XL/PHF13）的使用点和化学柜进料系统（PhotoKleen EZD/PHF23） PhotoKleen™ NTD过滤器采用全氟聚合物结构，实现终极相容性和清洁度。它还可产生极低压降。 特点 • 易更换囊式过滤器 • 滞留体积极小，顶进/顶出流向，进口液流流至底部 • 确保金属、颗粒和有机清洁度1 优势 产生的压降极低，可用于更高粘度流体 过滤器启动和更换时可减少停机时间 提供用于目标应用的优化滤膜 1 有关设备声明，请联系颇尔技术服务
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描述

用于先进工艺的光刻过滤器 PhotoKleen™ NTD囊式过滤器设计用于高级大通量跟踪系统中的侵蚀性有机溶剂应用。 可选三种过滤器结构，分别用于高级跟踪系统（PhotoKleen EZD3X/PHF12、Photokleen EZD3XL/PHF13）的使用点和化学柜进料系统（PhotoKleen EZD/PHF23） PhotoKleen™ NTD过滤器采用全氟聚合物结构，实现终极相容性和清洁度。它还可产生极低压降。 特点 • 易更换囊式过滤器 • 滞留体积极小，顶进/顶出流向，进口液流流至底部 • 确保金属、颗粒和有机清洁度1 优势 产生的压降极低，可用于更高粘度流体 过滤器启动和更换时可减少停机时间 提供用于目标应用的优化滤膜 1 有关设备声明，请联系颇尔技术服务

规格

 

构成材质

部件

材料2

滤材

功能化PTFE

背衬和排液

PFA

内芯、网罩和端盖

PFA

滤壳

PFA

O型圈

Kalrez1

1 Kalrez是杜邦公司的注册商标

2全氟聚合物材料，不使用PFOA

滤除精度

5nm

过滤面积

PHF12：1,200cm2
PHF13：2,400cm2
PHF23：2,400 cm2

最高工作温度

PHF12、PHF13：30°C/86°F
PHF23：23°C/73°F

最大工作压力

PHF12、PHF13：30°C时为0.29MPaG/86°F时为42psig
PHF23：23°C时为0.39MPaG/73°F时为57psig

典型流动特征-1厘泊流体（20℃）

类型

Filter Capsules

应用

光刻

订购信息

PHF12NTD2EH11B
PHF23NTD2EH11
PhotoKleen™ NTD PHF12NTD2EH11B
需要PhotoKleen™EZD-3头部双联管路组件
 PhotoKleen™ NTD PHF23NTD2EH11
需要PhotoKleen™EZD头部双联管路组件
PhotoKleen™EZD3头部双联管路组件（PHF1型） PhotoKleen™EZD头部双联管路组件（PHYG型）

虚拟滤囊


部件编号/订购信息

PHFC1H11B（用于PhotoKleenTM EZD-2, 3双联管路组件）
PHFC2H11（用于PhotoKleenTM EZD双联管路组件）

规格

构成材质

部件

材料

滤壳

PFA

O型圈

Kalrez

可提供头部双联管路组件

PHFC1：装入PhotoKleenTM EZD2/3头部双联管路组件
PHFC2：装入PhotoKleenTM EZD头部双联管路组件

 

滞留体积

PHFC1：1mL
PHFC2：14mL

最高工作温度

PHFC1：30°C/86°F
PHFC2：23°C/73°F

最大工作压力

PHFC1：30°C时为0.29MPa/86°F时为42psi
PHFC2：23°C时为0.39MPa/73°F时为57psi

 

检查

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